Hafniumsilitsiid (HfSi2)on siirdemetalli silitsiid, tulekindla intermetallilise ühendi tüüp. Selle ainulaadsete füüsikaliste ja keemiliste omaduste tõttu kasutatakse seda metallkeraamikas, kõrge temperatuuriga oksüdatsioonikindlates kattekihtides, kõrge temperatuuriga konstruktsioonimaterjalides ning lennunduses, kosmosetööstuses ja muudes valdkondades. Oksüdatsiooni pärssimiseks, maatriksi erosioonikindluse suurendamiseks ja ablatsioonijärgsete defektide korvamiseks võib HfSi2 kasutada Hf allikana HfC in situ sünteesiks.
Hafnium Silicide HfSi2 nanopulbri kasutusalad
Pooljuht: kasutatakse CMOS-seadmetes jõudluse parandamiseks suure võimsusega ja kõrgsageduslikes rakendustes.
Katted: HfSi2 kasutatakse õhukestes kiledes elektroonika jaoks, et parandada vastupidavust ja funktsionaalsust.
Konstruktsioonikomponendid: sellistes tööstusharudes nagu kosmosetööstus aitab see luua komponente, mis taluvad kõrgeid temperatuure.
Elektriküte: selle kõrge soojusjuhtivus muudab selle sobivaks kütteelementideks tööstuslikes rakendustes.
Termoelektrilised materjalid: HfSi2 saab kasutada termoelektriliste süsteemide energiatõhususe parandamiseks.
Päikeseenergia: seda saab tõhususe suurendamiseks kasutada ka fotogalvaanilistes süsteemides.
Katalüüs: HfSi2-l on omadused, mis toetavad katalüütilisi keemilisi protsesse.