Vedel tsükloheksaan CAS 110-82-7 fotoresisti lahustina

Toodete kirjeldus

Mis on tsükloheksaan?

Tsükloheksaan on värvitu, lenduv orgaaniline lahusti, millel on madal pindpinevus ja hea lahustuvus. Selle CAS-number on 110-82-7, EINECS-number on 203-806-2, keemiline valem on C₆H₁2, molekulmass on 84,16. Tihedus on 0,77, sulamistemperatuur on 6,5 kraadi, keemistemperatuur on 81 kraadi. Leekpunkt on -18 kraadi, vees peaaegu lahustumatu, aururõhk 37,7 kraadi juures on 168,8 mmHg, auru tihedus õhu suhtes on 2,9.

Põhiteave

Kasutab

Tsükloheksaanil on fotoresisti lahustina järgmised eelised:

• Hea lahustuvus: sellel on hea lahustuvus erinevate komponentide, nagu vaigud ja fotosensibilisaatorid fotoresistides, ning see võib muuta need komponendid lahuses ühtlaselt dispergeeritud, et moodustada stabiilne ja ühtlane fotoresisti süsteem, mis soodustab substraadile ühtlase vastupidava kile moodustumist.
• Madal keemispunkt ja lenduvus: selle keemistemperatuur on umbes 81 kraadi, mis on suhteliselt madal. Pärast fotoresisti katmist võib see kiiresti aurustuda, nii et resistkilet saab kiiresti kuivatada, lühendades töötlemisaega ja parandades tootmise efektiivsust. Veelgi enam, fotolitograafiaprotsessi ajal ei mõjuta lahustijäägid fotokeemilise reaktsiooni ja mustri ülekandmise täpsust.
• Kõrge keemiline stabiilsus: sellel on kõrge keemiline stabiilsus, seda ei ole kerge keemiliselt reageerida fotoresisti komponentidega ning seda ei ole kerge laguneda ega halveneda valguse, arengu jms tingimustes fotolitograafia protsessi käigus. See võib tagada fotoresisti jõudluse stabiilsuse ja tagada fotolitograafia mustri kvaliteedi ja täpsuse.
• Madal pindpinevus: Tsükloheksaanil on madal pindpinevus, mis võimaldab fotoresisti lahusel katmise ajal substraadi pinnal paremini levida, moodustades ühtlase ja tasase vastupidava kile, mis aitab parandada fotolitograafia eraldusvõimet ja vähendada ebaühtlasest kilepaksusest või ebaühtlasest pinnast tingitud mustrivigu.
• Kulutõhusus-: see on suhteliselt levinud ja odav orgaaniline lahusti, millel on lai valik allikaid. Fotoresistide masstootmisel- võib tsükloheksaani kasutamine lahustina vähendada tootmiskulusid ja sellel on hea majanduslik praktilisus.

Ohutusteave

Hoida eemal süttimisallikatest.
Vältida silma sattumist.
Võtke kasutusele ettevaatusabinõud, et vältida staatilise elektri teket.
Kõrvaldage see materjal ja selle konteiner ohtlike jäätmetena.
Vältida sattumist keskkonda. Vaadake erijuhiseid/ohutuskaarti.
Allaneelamisel ärge kutsuge esile oksendamist; pöörduda viivitamatult arsti poole ja näidata pakendit või etiketti.
Hoidke konteinerit hästi{0}}ventileeritavas kohas.

Ettevõtte profiil

Gneebioon fütokemikaalide ja peenkemikaalide uurimisele, arendustegevusele, tootmisele ja müügile spetsialiseerunud ettevõte. Meie tehas asutati 2016. aastal ja asub Henani provintsis, pindalaga 3600 ruutmeetrit. Meil on professionaalne, hästi{5}}varustatud ja kvaliteetne- teadus- ja arendustegevuse meeskond, kellel on rohkem kui 10 aastat teadus- ja arendustegevuse kogemust. Meiereaktiivtooteid eksporditakse laialdaselt paljudesse riikidesse, sealhulgas Ameerika Ühendriikidesse, Venemaale, Kanadasse, Austraaliasse, Euroopasse jne ning pakume oma klientidele kiireid saatmisteenuseid. Loodame tulevikus luua pikaajalist-vastastikku kasulikku koostööd rohkemate sõpradega ning pakkuda oma klientidele parimaid tooteid ja teenuseid.

Meie populaarsete toodete hulka kuuluvad orgaanilised kemikaalid:CAS: 3327-22-8 CTA, CAS 27126-76-7 Fenüüljodosohüdroksütosülaat, katalüsaator:CAS 110-02-1 Tiofeen, teiste hulgas.

Võtke meiega ühendust

KKK